■クリーンルームの概要

○設置の目的
新機能物質の研究開発
優れた研究者・技術者を育成する教育研究施設

○研究の内容
新機能物質の研究開発
優れた研究者・技術者を育成する教育研究施設

■研究工程

半導体の工程を大きく3つに分けると

1. マスク製作工程
2. ウェハ製作工程
3. アセンブリ工程

となり，実際にこのクリーンルームではウェハ製作工程を行っております．

■クリーンルームとは

クリーンルームとは，HEPAフィルターを通した清浄な空気を循環させることにより，埃の数をに減らした特殊な部屋のことで，半導体集積回路の製作などにはなくてはならない施設です．実際の埃の量は，1立方フィート（約28.3リットル）中に何個埃があるかを基準としますと，本大学クリーンルームには， 0.5μmの埃が1000個以内しかない部屋（クラス1000）， 100個以内しかない部屋（クラス100）があります．（普通の街中のクリーン度を例として挙げてみますと，クラス数百万ということになります．）ちなみに，0.5μmの大きさはどのくらいかといいますと，花粉で数10μm，通常の菌で数μmですので，クリー ンルーム内では花粉症，伝染病等に感染しにくくなります． （右図：クリーンルーム内部）

■イエロールーム・リソグラフィ室とは

イエロールーム・リソグラフィ室は，レジスト塗布，マスクの位置合せ，露光，現像と通常の写真に近い作業を行う部屋です．写真の場合，フィルムに可視光線で感光しますが，半導体の場合，マスクのパターンをウェハー上に投影 （感光）するのに水銀ランプのg線(436nm)かｉ線(365nm) （最近ではKrFエキシマレーザー（248nm））が使われます．そのときに外部から光が入っても感光しないように，外部からの光（蛍光灯や窓）に黄色のフィルターをかけて､ それらの波長が出ないようにしているためです． （一般的に可視光線は380～780nm）
（右図：イエロールーム内部）

■高圧実験室

高圧実験室は，F棟の2階にあり，主に特殊高圧ガスを使用する実験（マスク製作，酸化・拡散工程）を行っております．（クラス1000）また，１階クリーンルームと高圧実験室にはダムウェーターが設置してあり，容易に試料等をやり取りできるようにしてあります．
※特殊高圧ガス：モノシラン，ホスフィン，アルシン，ジボラン，セレン化水素， モノゲルマン，ジシラン

■設置機器

マスクアライナ	スピンコーター
MOCVD装置	表面改質装置

■安全管理について

クリーンルームは，閉ざされた空間であり，特殊なガスなどを使用する関係上，安全管理が重要となります．本大学では緊急時に，施設の利用者の有無が一目で 分かるようなＩＣカードを使用したシステムで管理しております． また，施設にはカメラが設置されており，死角がなくなるようにしております．

■クリーンルームの仕様

見学者用廊下からみたクリーンルーム内部です．	共通利用のマルチターゲットスパッタ，蒸着装置です． 他にも，色々な共通利用の装置が立ち上がる予定です．
イエロールーム内部です． パターニング工程(フォトリソグラフィ)や， 光に敏感な材料等を扱う場合使用します．